Richtlijn 87/54/EEG van de Raad van 16 december 1986 betreffende de rechtsbescherming van topografieën van halfgeleiderprodukten - Hoofdinhoud

Avis juridique important

|

Richtlijn 87/54/EEG van de Raad van 16 december 1986 betreffende de rechtsbescherming van topografieën van halfgeleiderprodukten

Publicatieblad Nr. L 024 van 27/01/1987 blz. 0036 - 0040

Bijzondere uitgave in het Fins: Hoofdstuk 13 Deel 16 blz. 0095

Bijzondere uitgave in het Zweeds: Hoofdstuk 13 Deel 16 blz. 0095

*****

RICHTLIJN VAN DE RAAD

van 16 december 1986

betreffende de rechtsbescherming van topografieën van halfgeleiderprodukten

(87/54/EEG)

DE RAAD VAN DE EUROPESE GEMEENSCHAPPEN,

Gelet op het Verdrag tot oprichting van de Europese Economische Gemeenschap, inzonderheid op artikel 100,

Gezien het voorstel van de Commissie (1),

Gezien het advies van het Europese Parlement (2),

Gezien het advies van het Economisch en Sociaal Comité (3),

Overwegende dat halfgeleiderprodukten in een groot aantal sectoren van de industrie een steeds belangrijkere rol spelen en dat de halfgeleidertechnologie dan ook als van fundamenteel belang voor de industriële ontwikkeling van de Gemeenschap kan worden beschouwd;

Overwegende dat de functies van halfgeleiderprodukten voornamelijk afhangen van de topografieën van deze produkten en dat voor de ontwikkeling van deze topografieën belangrijk menselijk en technisch potentieel en aanzienlijke financiële middelen moeten worden ingezet, terwijl zij voor een fractie van de kosten die moeten worden besteed om deze topografieën zelfstandig te ontwikkelen, kunnen worden gekopieerd;

Overwegende dat topografieën van halfgeleiderprodukten thans niet in alle Lid-Staten door de geldende wetgeving duidelijk worden beschermd en dat waar deze bescherming wel bestaat, zij uiteenlopende kenmerken vertoont;

Overwegende dat verschillen die bestaan in de door de wetgeving der Lid-Staten voor halfgeleiderprodukten geboden rechtsbescherming een rechtstreekse en negatieve invloed hebben op de werking van de gemeenschappelijke markt voor halfgeleiderprodukten; dat het gevaar bestaat dat deze verschillen nog zullen toenemen wanneer door Lid-Staten nieuwe wetgeving ter zake wordt uitgevaardigd;

Overwegende dat bestaande verschillen die een dergelijke invloed hebben, dienen te worden weggenomen en dat moet worden voorkomen dat er zich nieuwe verschillen voordoen die de gemeenschappelijke markt nadelig beïnvloeden;

Overwegende dat, wat betreft de uitbreiding van de rechtsbescherming tot personen buiten de Gemeenschap, de Lid-Staten vrij moeten zijn om zelfstandig te handelen indien er binnen een bepaalde tijd geen communautaire besluiten zijn genomen;

Overwegende dat het communautaire juridische kader op het stuk van de bescherming van topografieën van halfgeleiderprodukten in eerste aanleg kan worden beperkt tot bepaalde grondbeginselen door te voorzien in voorschriften waarin wordt aangegeven wie en wat moet worden beschermd, op welke exclusieve rechten beschermde personen zich kunnen beroepen voor het verlenen van toestemming voor bepaalde handelingen of voor het verbieden daarvan, welke uitzonderingen er op die rechten zijn, alsmede voor welke duur de bescherming geldt;

Overwegende dat andere onderwerpen voorlopig overeenkomstig het nationale recht kunnen worden geregeld, in het bijzonder de vraag of registratie of deponering voorwaarde voor bescherming moet zijn en, met uitzondering van een bepaling inzake licenties die zijn verleend uitsluitend omdat een bepaalde periode is verstreken, de vraag of en onder welke voorwaarden gedwongen licenties voor beschermde topografieën kunnen worden verleend;

Overwegende dat de bescherming van topografieën van halfgeleiderprodukten overeenkomstig deze richtlijn de toepassing van andere vormen van bescherming onverlet moet laten;

Overwegende dat, terwijl in een later stadium, zo nodig, andere maatregelen betreffende de rechtsbescherming van topografieën van halfgeleiderprodukten in overweging kunnen worden genomen, thans de toepassing door alle Lid-Staten van gemeenschappelijke beginselen overeenkomstig de bepalingen van deze richtlijn dringend geboden is,

HEEFT DE VOLGENDE RICHTLIJN VASTGESTELD:

HOOFDSTUK 1

Definities

Artikel 1

• 1. 

  In deze richtlijn wordt verstaan onder:

• a) 

  »halfgeleiderprodukt": een produkt in zijn definitieve of intermediaire vorm:

• i) 

  dat bestaat uit een plak materiaal die een laag halfgeleidermateriaal bevat, en

• ii) 

  waarop volgens een vooraf bepaald driedimensionaal patroon een of meer lagen geleidend, isolatie- of halfgeleidermateriaal zijn aangebracht, en

• iii) 

  dat bestemd is om uitsluitend elektronische functies of elektronische en andere functies te zamen te vervullen;

• b) 

  »topografie" van een halfgeleiderprodukt: een reeks samenhangende beelden, op enigerlei wijze vastgelegd,

• i) 

  die het driedimensionale patroon van de lagen weergeven waaruit het halfgeleiderprodukt is samengesteld, en

• ii) 

  waarin elk beeld het patroon of een gedeelte van het patroon van een oppervlak van het halfgeleiderprodukt in enig stadium van zijn vervaardiging voorstelt;

• c) 

  »commerciële exploitatie": de verkoop, verhuur, leasing of het op andere wijze commercieel in het verkeer brengen, dan wel het aanbieden voor deze doeleinden. De commerciële exploitatie in de zin van artikel 3, lid 4, artikel 4, lid 1, en artikel 7, leden 1, 3 en 4, omvat echter niet de exploitatie onder voorwaarde van vertrouwelijkheid voor zover daarbij geen verspreiding onder derden plaatsvindt, met uitzondering echter van de vertrouwelijke exploitatie van een topografie die vereist is krachtens een maatregel overeenkomstig artikel 223, lid 1, onder b), van het EEG-Verdrag.

• 2. 

  De Raad kan op voorstel van de Commissie met gekwalificeerde meerderheid van stemmen lid 1, onder a) i) en ii), wijzigen, om deze bepalingen aan te passen aan de technische vooruitgang.

HOOFDSTUK 2

Bescherming van topografieën van halfgeleiderprodukten

Artikel 2

• 1. 

  De Lid-Staten beschermen topografieën van halfgeleiderprodukten door middel van wettelijke bepalingen waarbij exclusieve rechten worden verleend overeenkomstig het bepaalde in deze richtlijn.

• 2. 

  De topografie van een halfgeleiderprodukt wordt slechts beschermd voor zover zij voldoet aan de voorwaarden dat zij het voortbrengsel is van de eigen intellectuele inspanning van de maker en in de halfgeleiderindustrie niet algemeen bekend is. Indien de topografie van een halfgeleiderprodukt bestaat uit in de halfgeleiderindustrie algemeen bekende bestanddelen, wordt zij slechts beschermd voor zover de combinatie van dergelijke bestanddelen, als één geheel bezien, aan bovengenoemde voorwaarden voldoet.

Artikel 3

• 1. 

  Behoudens de leden 2 tot en met 5 genieten degenen die de topografieën van halfgeleiderprodukten tot stand hebben gebracht, recht op bescherming.

• 2. 

  De Lid-Staten kunnen bepalen dat:

• a) 

  indien een topografie tot stand komt in het kader van een dienstbetrekking van de maker, de werkgever van de maker recht op bescherming geniet, tenzij de arbeidsovereenkomst anders bepaalt;

• b) 

  indien een topografie tot stand komt krachtens een andere overeenkomst dan een arbeidsovereenkomst, de partij recht op bescherming geniet die de bestelling voor de topografie heeft gedaan, tenzij de overeenkomst anders bepaalt.

• 3. 

  a) Van de in lid 1 bedoelde personen genieten recht op bescherming de natuurlijke personen die onderdaan van een Lid-Staat zijn of hun gewone verblijfplaats op het grondgebied van een Lid-Staat hebben.

• b) 

  Indien de Lid-Staten overeenkomstig lid 2 bepalingen uitvaardigen, genieten recht op bescherming:

• i) 

  natuurlijke personen die onderdaan van een Lid-Staat zijn of hun gewone verblijfplaats op het grondgebied van een Lid-Staat hebben;

• ii) 

  vennootschappen of andere rechtspersonen met een daadwerkelijke industriële of commerciële vestiging op het grondgebied van een Lid-Staat.

• 4. 

  Wanneer er geen recht op bescherming bestaat krachtens andere bepalingen van dit artikel, geldt het recht op bescherming ook voor de in lid 3, onder b) i) en ii), bedoelde personen die:

• a) 

  in een Lid-Staat voor het eerst een topografie commercieel exploiteren die nog niet elders in de wereld commercieel is geëxploiteerd, en

• b) 

  van degene die daarover kan beschikken, bij uitsluiting toestemming heeft verkregen de topografie commercieel in de Gemeenschap te exploiteren.

• 5. 

  Recht op bescherming genieten tevens de rechtsopvolgers van de in de leden 1 tot en met 4 genoemde personen.

• 6. 

  Behoudens lid 7 kunnen de Lid-Staten, met inachtneming van het Gemeenschapsrecht en in het bijzonder het in deze richtlijn bepaalde, onderhandelen over en overgaan tot sluiting van overeenkomsten of regelingen met derde Staten en multilaterale overeenkomsten betreffende de rechtsbescherming van topografieën van halfgeleiderprodukten.

• 7. 

  De Lid-Staten kunnen onderhandelingen met derde Staten openen met het oog op uitbreiding van het recht op bescherming tot personen die geen recht op bescherming genieten krachtens het bepaalde in deze richtlijn. De Lid-Staten die dergelijke onderhandelingen openen, stellen de Commissie daarvan in kennis.

Indien een Lid-Staat de bescherming wenst uit te breiden tot personen die anders krachtens de bepalingen van deze richtlijn geen recht op bescherming hebben, of een overeenkomst of regeling betreffende de uitbreiding van de bescherming met een derde Staat wenst te sluiten stelt hij de Commissie daarvan in kennis. De Commissie stelt de overige Lid-Staten hiervan in kennis. De Lid-Staat schort de uitbreiding van de bescherming of de totstandkoming van de overeenkomst of regeling op voor ten minste één maand, te rekenen vanaf de datum van de kennisgeving aan de Commissie. Indien de Commissie de Lid-Staat echter binnen die termijn kennis geeft van haar voornemen bij de Raad een voorstel in te dienen betreffende de uitbreiding van de bescherming door alle Lid-Staten ten behoeve van de betrokken personen of derde Staat, schort de Lid-Staat de uitbreiding van de bescherming of de sluiting van de overeenkomst of regeling op voor een periode van twee maanden, te rekenen vanaf de datum van de kennisgeving door de Lid-Staten.

Indien de Commissie vóór het verstrijken van deze termijn van twee maanden een dergelijk voorstel bij de Raad indient, schort de Lid-Staat de uitbreiding van de bescherming of de sluiting van de overeenkomst of regeling nogmaals op voor een periode van vier maanden, te rekenen vanaf de datum van indiening van het voorstel.

Bij gebreke van een kennisgeving of voorstel van de Commissie of van een besluit van de Raad binnen de hierboven voorgeschreven termijn kan de Lid-Staat de bescherming uitbreiden of de overeenkomst of regeling sluiten.

Een voorstel van de Commissie tot uitbreiding van de bescherming wordt, ongeacht of het al dan niet wordt ingediend ingevolge een kennisgeving door een Lid-Staat overeenkomstig de voorgaande alinea's, door de Raad goedgekeurd met gekwalificeerde meerderheid van stemmen.

Een besluit van de Raad op voorstel van de Commissie vormt voor een Lid-Staat geen beletsel om de bescherming uit te breiden tot degenen die, buiten de personen die in alle Lid-Staten bescherming genieten, onder de beoogde uitbreiding, overeenkomst of regeling waarop de kennisgeving betrekking had, vielen, tenzij de Raad met gekwalificeerde meerderheid van stemmen anders heeft besloten.

• 8. 

  De in lid 7 bedoelde voorstellen van de Commissie en besluiten van de Raad, worden ter informatie bekendgemaakt in het Publikatieblad van de Europese Gemeenschappen.

Artikel 4

• 1. 

  De Lid-Staten kunnen bepalen dat de krachtens artikel 2 verleende exclusieve rechten met betrekking tot de topografie van een halfgeleiderprodukt niet ontstaan of vervallen indien niet binnen twee jaar na haar eerste commerciële exploitatie bij een openbare instantie op de voorgeschreven wijze registratie wordt aangevraagd. De Lid-Staten kunnen naast die registratie ook bepalen dat materiaal waarmee de topografie wordt geïdentificeerd of afgebeeld of een combinatie hiervan bij een openbare instantie gedeponeerd moet zijn, samen met een verklaring betreffende het tijdstip van eerste commerciële exploitatie van de topografie, indien dit vóór het tijdstip van de registratieaanvraag ligt.

• 2. 

  De Lid-Staten zorgen ervoor dat overeenkomstig lid 1 gedeponeerd materiaal niet aan het publiek ter beschikking wordt gesteld, indien dit materiaal een bedrijfsgeheim is. Deze bepaling laat onverlet het vrijgeven van dergelijk materiaal op last van de rechter of een andere bevoegde autoriteit aan personen die betrokken zijn bij een geschil over de geldigheid van of een inbreuk op de in artikel 1 bedoelde exclusieve rechten.

• 3. 

  De Lid-Staten kunnen bepalen dat de overdracht van rechten op beschermde topografieën moet worden geregistreerd.

• 4. 

  De Lid-Staten mogen aan de registratie en het depot bedoeld in de leden 1 en 3 de betaling van een vergoeding verbinden die niet meer mag bedragen dan de daaraan verbonden administratiekosten.

• 5. 

  Het verkrijgen of behouden van bescherming mag niet aan verdere formaliteiten worden onderworpen.

• 6. 

  De Lid-Staten die registratie voorschrijven voorzien in rechtsmiddelen voor degene die overeenkomstig het bepaalde in deze richtlijn recht op bescherming heeft en die kan aantonen dat een derde zonder zijn toestemming registratie heeft aangevraagd of verkregen voor een door hem gemaakte topografie.

Artikel 5

• 1. 

  De in artikel 2 bedoelde exclusieve rechten omvatten het recht om de volgende handelingen toe te staan of te verbieden:

• a) 

  de reproduktie van een topografie voor zover deze krachtens artikel 2, lid 2, wordt beschermd;

• b) 

  de commerciële exploitatie dan wel de invoer voor zodanige exploitatie van een topografie of van een door gebruikmaking van die topografie voortgebracht halfgeleiderprodukt.

• 2. 

  Onverminderd lid 1 kan een Lid-Staat de reproduktie van een topografie in de privésfeer voor niet-commerciële doeleinden toestaan.

• 3. 

  De in lid 1, onder a), bedoelde exclusieve rechten gelden niet voor reprodukties uitsluitend voor de analyse, de evaluatie of het onderwijzen van de concepten, processen, systemen of technieken die in de topografie belichaamd zijn of van de topografie zelf.

• 4. 

  De in lid 1 bedoelde exclusieve rechten gelden niet voor een topografie die aan de voorwaarden van artikel 2, lid 2, voldoet en die ontworpen is op basis van een analyse en evaluatie van een andere topografie als bedoeld in lid 3.

• 5. 

  Het exclusieve recht om de in lid 1, onder b), genoemde handelingen toe te staan of te verbieden geldt niet wanneer deze handelingen worden verricht nadat de topografie of het halfgeleiderprodukt in een Lid-Staat in het verkeer is gebracht door of met toestemming van de persoon die gerechtigd is toestemming te verlenen om deze topografie of dit halfgeleiderprodukt in de handel te brengen. 6. Indien een persoon bij het verwerven van een halfgeleiderprodukt niet weet of niet redelijkerwijs kan vermoeden dat het produkt beschermd is krachtens een door een Lid-Staat overeenkomstig deze richtlijn verleend exclusief recht, kan hem niet worden verboden dat produkt commercieel te exploiteren.

Voor handelingen die zijn verricht terwijl hij weet of redelijkerwijs kan vermoeden dat het halfgeleiderprodukt zodanig beschermd is, dragen de Lid-Staten er zorg voor dat een rechterlijke instantie op verzoek van de rechthebbende kan beslissen dat overeenkomstig de nationale wetsbepalingen een passende vergoeding zal worden betaald.

• 7. 

  Lid 6 is van toepassing op de rechtsopvolgers van de in de eerste zin van dit lid bedoelde persoon.

Artikel 6

De Lid-Staten onderwerpen de in artikel 2 bedoelde exclusieve rechten niet aan licenties die van rechtswege worden verleend uitsluitend omdat een bepaalde tijd verstreken is.

Artikel 7

• 1. 

  De Lid-Staten bepalen dat de in artikel 2 bedoelde exclusieve rechten ontstaan:

• a) 

  wanneer overeenkomstig artikel 4 registratie voorwaarde is voor het ontstaan van de exclusieve rechten, op het eerste van onderstaande tijdstippen:

• i) 

  het tijdstip waarop de topografie voor het eerst ergens ter wereld commercieel is geëxploiteerd;

• ii) 

  het tijdstip waarop een registratieaanvraag in de voorgeschreven vorm is ingediend; of

• b) 

  wanneer de topografie voor het eerst ergens ter wereld commercieel wordt geëxploiteerd; of

• c) 

  wanneer de topografie voor het eerst op enigerlei wijze wordt vastgelegd.

• 2. 

  Wanneer de exclusieve rechten ontstaan overeenkomstig lid 1, onder a) of b), dragen de Lid-Staten er zorg voor dat degene die overeenkomstig het bepaalde in deze richtlijn recht op bescherming heeft en die kan aantonen dat een derde zonder zijn toestemming een door hem ontworpen topografie bedrieglijk heeft gereproduceerd, commercieel geëxploiteerd of daartoe heeft ingevoerd, voor de aan het ontstaan van die rechten voorafgaande periode over rechtsmiddelen beschikt. Deze bepaling laat overlet de rechtsmiddelen die worden geboden om de overeenkomstig artikel 2 verleende exclusieve rechten uit te oefenen.

• 3. 

  De exclusieve rechten vervallen tien jaar na het verstrijken van het kalenderjaar waarin de topografie voor het eerst ergens ter wereld commercieel is geëxploiteerd of, indien registratie een voorwaarde is voor het ontstaan of het voortbestaan van de exclusieve rechten, tien jaar na het eerste van onderstaande tijdstippen:

• a) 

  het verstrijken van het kalenderjaar waarin de topografie voor het eerst ergens ter wereld commercieel geëxploiteerd is;

• b) 

  het verstrijken van het kalenderjaar waarin de registratieaanvraag in de voorgeschreven vorm ingediend is.

• 4. 

  Indien een topografie in een periode van vijftien jaar na eerste vastlegging nergens ter wereld commercieel is geëxploiteerd, vervallen de krachtens lid 1 ontstane exclusieve rechten en kunnen in de Lid-Staten waar registratie voorwaarde voor het ontstaan of het voortbestaan van de exclusieve rechten is, geen exclusieve rechten ontstaan, tenzij in die periode een registratieaanvraag in de voorgeschreven vorm is ingediend.

Artikel 8

De bescherming van topografieën van halfgeleiderprodukten overeenkomstig artikel 2 strekt zich niet uit tot andere in de topografie belichaamde concepten, processen, systemen, technieken of gecodeerde informatie dan de topografie zelf.

Artikel 9

Indien volgens de wetgeving van een Lid-Staat de door gebruikmaking van beschermde topografieën voortgebrachte halfgeleiderprodukten van een teken kunnen worden voorzien, wordt hiervoor een hoofdletter T gebruikt: T, »T ", [ T ] , T , T * of T .

HOOFDSTUK 3

Toepassing van andere wetsbepalingen

Artikel 10

• 1. 

  Deze richtlijn laat wettelijke bepalingen inzake het octrooirecht en het gebruiksmodellenrecht onverlet.

• 2. 

  Deze richtlijn laat onverlet:

• a) 

  de rechten die door de Lid-Staten zijn verleend ter nakoming van hun verplichtingen uit verdragen, met inbegrip van bepalingen waarbij die rechten worden uitgebreid tot onderdanen of ingezetenen van de betrokken Lid-Staat;

• b) 

  de auteursrechtelijke bepalingen in de Lid-Staten waarbij de reproduktie door het tweedimensionale kopiëren van tekeningen of van andere artistieke afbeeldingen van topografieën wordt beperkt.

• 3. 

  Deze richtlijn laat onverlet de bescherming naar nationaal recht van topografieën van halfgeleiderprodukten die op enigerlei wijze zijn vastgelegd vóór de inwerkingtreding van de nationale bepalingen ter uitvoering van de richtlijn en niet later dan de in artikel 11, lid 1, genoemde datum. HOOFDSTUK 4

Slotbepalingen

Artikel 11

• 1. 

  De Lid-Staten doen uiterlijk op 7 november 1987 de nodige wettelijke en bestuursrechtelijke bepalingen in werking treden om aan deze richtlijn te voldoen.

• 2. 

  De Lid-Staten delen de Commissie de tekst mee van alle belangrijke bepalingen van nationaal recht die zij op het onder deze richtlijn vallende gebied vaststellen.

Artikel 12

Deze richtlijn is gericht tot de Lid-Staten.

Gedaan te Brussel, 16 december 1986.

Voor de Raad

De Voorzitter

• G. 

  HOWE

• (1) 

  PB nr. C 360 van 31. 12. 1985, blz. 14.

• (2) 

  PB nr. C 255 van 13. 10. 1986, blz. 249.

• (3) 

  PB nr. C 189 van 28. 7. 1986, blz. 5.

Van deze pagina bestaat een uitgebreide versie met de juridische context.